近年来，随着美国加大力度对中共科技行业进行遏制，中共猎取日本、韩国的高技术及相关人才的案件越来越猖獗。近日爆出的权恒道案是日本最新一起经济泄密案。 据共同社报导，采访办案人员获悉，东京警视厅公安部6月15日以涉嫌违反《反不正当竞争法》为由，逮捕了茨城县筑波市的国立研究开发法人“产业技术综合研究所”（产综研）的一名高级主任研究员（中国籍、59岁）。 日本警方认为该人涉嫌带走研究数据并泄露给了中国企业。办案人员表示，因国家研究机构信息外泄给中方而立案极其罕见。 嫌疑人在产综研从事氟化物相关研究，可能违规把研究获得的数据发送给了中方。 公安部未透露该人是否认罪。15日搜查了其住宅等相关地点，没收了资料等。产综研方面向警视厅告知情况称蒙受了损失。 产综研是日本最大规模的公共研究机构，拥有超两千名在籍研究职员。 另据《日本经济新闻》报导，警视厅公安部称，此次逮捕的嫌疑人名为权恒道。他涉嫌于2018年4月向中国企业的邮箱地址发送了用于绝缘气体的氟化物合成技术相关研究数据。绝缘气体是不导电的气体，可用作变压器等电气设备的绝缘体。 据调查相关人士称，权恒道毕业于“南京理工大学”。2002年4月开始在日本产综研工作。还曾在北京理工大学任教。 近年来，尖端技术信息被从日本带到国外的案件层出不穷。 2021年，日本积水化学工业前员工因将用于智能手机的技术的机密信息泄露给中国企业，涉嫌违反《不正竞争防止法》被在宅起诉，之后被判有罪。 中共不断挖“墙脚” 韩国高科技受损 在与日本一水之隔的韩国也有动作。该国检方6月12日以涉嫌违反《产业技术保护法》和《不正当竞争防止法》，对涉嫌窃取被指定为国家核心技术的三星电子半导体工厂设计资料，并意图在中国建造“复制工厂”的前三星电子常务崔某（65岁）进行了拘留起诉。 崔某在韩国半导体业界曾被称为“存储器生产工程的最高专家”。他最初在三星电子存储器半导体部门工作了18年，曾担任半导体业务常务。2001年他跳槽到海力士半导体（现在的SK海力士）。2010年辞职。 据韩国检方调查结果，2018年8月到2019年，崔某涉嫌使用三星电子半导体工厂BED（Basic Engineering Data）、工序布局图和半导体工厂设计图等商业机密资料，以及从台湾企业获得的投资，企图在中国西安市建设与三星电子相同的芯片工厂。其选址距离三星电子的西安工厂只有1.5公里。 韩国检方表示，“半导体芯片工厂BED是三星电子通过三十多年的研究开发获得的资料，价值3,000亿至数万亿韩元，不仅是一个企业的商业秘密，更是国家级的核心技术。” 2019年，崔某在中国成立半导体企业真芯（北京）半导体。2020年，真芯（北京）半导体与成都市政府合作，成立了半导体合资公司——成都高真科技。崔某担任该合资公司的代表。 据韩媒《中央日报》报导，崔某获得成都市政府4,600亿韩元（约3.6亿美元）投资，去年在成都建成研发（R&D）大楼，今年开始生产采用从三星电子盗取的技术而制造的半导体样品。 韩国警察厅最近4个月为揭露产业技术泄露犯罪进行了“危害经济安全犯罪特别打击行动”。6月11日公布的中期调查结果显示，有8件是海外技术泄露事件，与中国企业有关的占一半左右。 日本电子工程师李济心6月15日对大纪元表示，中共偷窃技术的第一目标一定是科技最强的美国，当美国开始意识到技术被严重窃取并开始严格审查时，偷窃的主要目标开始伸向欧洲和日本，当欧洲和日本开始防范时，偷窃技术的对象就变成了在中国还有大量投资，还没有严格防范的韩国了。 |
连续攻击纽约真相点 中共暴徒被警方逮捕
